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应用领域:

平板显示领域的具体应用包括:TN/STN-LCD的ITO电极制作;TP的ITO电极、Mo/Al/Mo Sensor制作;TFT-LCD/OLED的TFT背板制作等。

操作工艺参数:

平板显示用光刻胶主要技术参数:

平板显示用光刻胶系列主要包括:RD-PFR/PFS、RD-PTL500、RD-PTH800等系列,不同系列光刻胶的主要技术参数如下:

产品名称 主要参数 特性 应用 下载
RD-PFR/PFS系列 水分:<0.5%
颗粒(0.5um颗粒,个/ml):<100
痕量金属(K、Na、Fe,ppb):<500
膜厚:1.2~2.2um
分辨率:2um(g+h+i曝光)
高活性、高溶解性、 高稳定性 TN/STN-LCD的ITO电极制作; TP的ITO电极、 Mo/Al/Mo Sensor制作; TFT-LCD/OLED的TFT背板制作等。 下载
RD-PTL500系列 水分:<0.5%
颗粒(0.5um颗粒,个/ml):<100
痕量金属(K、Na、Fe,ppb):<300
膜厚:1.4~2.2um
分辨率:1.5um(g+h+i曝光)
高活性、高溶解性、 高稳定性 TN/STN-LCD的ITO电极制作; TP的ITO电极、 Mo/Al/Mo Sensor制作; TFT-LCD/OLED的TFT背板制作等。 下载
RD-PTH800系列 水分:<0.5%
颗粒(0.5um颗粒,个/ml):<100
痕量金属(K、Na、Fe,ppb):<100
膜厚:1.4~2.2um
分辨率:1.5um(g+h+i曝光)
高活性、高溶解性、 高稳定性 TN/STN-LCD的ITO电极制作; TP的ITO电极、 Mo/Al/Mo Sensor制作; TFT-LCD/OLED的TFT背板制作等。 下载

注意事项:

平板显示领域的具体应用包括:TN/STN-LCD的ITO电极制作;TP的ITO电极、Mo/Al/Mo Sensor制作;TFT-LCD/OLED的TFT背板制作等。